仪器设备

仪器基本信息 查看联系方式

仪器图片
• 设备名称
  磁控溅射镀膜系统
• 制造厂商
• 规格型号
  品牌型号：金盛微纳JS4S-75G
• 所属单位
  中国科学院深圳先进技术研究院
• 收费标准
• 性能参数

   

   

  【性能参数】 极限真空：≤6.7×10-5Pa 抽速：连续抽气30分钟，真空度≤5×10-3Pa 溅射靶规格：3吋 溅射靶数量：四靶倾斜上置 溅射不均匀性：≤±5％ 样片台可旋转，转速可调 加热温度：≤800℃，可自动控温、测温 溅射形式：多靶系列可实现单一靶溅射、复合靶材溅射、两种材料交替溅射

• 主要功能与用途

   

  【功能用途】 本设备可在硅片、塑料、陶瓷、玻璃、右英、III-V族化合物及金属等材料表面镀制AI ， Au 、Cr、Ti 、Ni 、Cu ， W、SiO2、各种金属、非金属，单层、多层膜；主要用于微电子、光电子、通讯、微机械等领域的器件研发和制造。