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• 设备名称
  感应耦合等离子刻蚀机
• 制造厂商
• 规格型号
  品牌型号：ICP-2B
• 所属单位
• 收费标准
• 性能参数

  【性能参数】
  •真空系统：分子泵机组 
  •刻蚀室数量：单反应室 
  •刻蚀室规格：300×2800mm 
  •电极尺寸：200mm 
  •刻蚀材料：Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs等
  •刻蚀速率：0.11μ/min(与刻蚀材料和工艺有关)
  •刻蚀不均匀性：≤±5% 

• 主要功能与用途

  【功能用途】
  •具备反应离子刻蚀(RIE)，等离子刻蚀(PE)和电感藕合等离子刻蚀(ICP)功能；主要用于微电子、光电子、通讯、微机等领域的器件研发和制造。